天津金相磨拋機(jī)操作的核心思想是獲得Z大的拋光速率，以便在耕種過(guò)程中發(fā)生一層拋光，以盡快消除損壞。 而且，拋光層不影響Z終檢查的損壞結(jié)構(gòu)，并且不會(huì)導(dǎo)致錯(cuò)誤的構(gòu)造。 這兩個(gè)要求是矛盾的。 前者需要使用粗磨，以確保往復(fù)移動(dòng)去除拋光損傷層的速度更快，并拋光更深的損傷層。 后者需要使用Z好的材料，拋光的受損層較淺，但磨削速度較低。 Z好的方法是分兩個(gè)階段進(jìn)行應(yīng)用，即相互矛盾的拋光。

天津金相磨拋機(jī)應(yīng)使拋光損傷層不影響Z終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。 前者需要使用較粗糙的磨料以確保更高的拋光速率，以去除拋光損傷層，但拋光損傷層也更深。 后者需要使用Z優(yōu)質(zhì)的材料，因此拋光損傷層較淺，但拋光率較低。 解決這一矛盾的很好的方法是將拋光分為兩個(gè)階段。 粗拋光的目的是去除拋光的損傷層。 該階段應(yīng)具有Z大的拋光速率。 次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損傷，但應(yīng)盡可能小。 D二種是精細(xì)拋光（或Z終拋光）。 其目的是消除由粗糙拋光引起的表面損傷，并使拋光損傷Z小化。

先是粗拋光，目的是去除拋光損傷層，該階段應(yīng)具有Z大的拋光速率。 D二個(gè)想法是在粗糙的拋光表面上形成損傷。 就是這樣，也許它應(yīng)該很??； 然后進(jìn)行精細(xì)研磨（或Z終研磨），其目的是消除發(fā)生粗研磨時(shí)的表面損傷，并使研磨損傷Z小化。 拋光時(shí)，應(yīng)將經(jīng)過(guò)研磨和拋光的樣品平行并均勻地壓在拋光盤(pán)上，由于壓力太大和出現(xiàn)新的磨損痕跡，請(qǐng)仔細(xì)地準(zhǔn)備樣品和繁殖蠅。